| BYK®-302 FOR INKS | BYK 毕克 | 有机硅表面助剂，可中等程度的降低表面张力。可用于所有水性、溶剂型和无溶剂印刷油墨 | |
| BYK®-331 FOR INKS | BYK 毕克 | 有机硅表面助剂，可中等程度的降低表面张力。可用于所有水性、溶剂型和无溶剂印刷油墨 | |
| BYK®-346 FOR INKS | BYK 毕克 | 有机硅表面活性剂，是用以提高水性体系基材润湿性的标准添加剂 | |
| BYK®-347 FOR INKS | BYK 毕克 | 有机硅表面活性剂，可提高水性印刷油墨的基材润湿性 | |
| BYK®-377 FOR INKS | BYK 毕克 | 有机硅表面助剂，低添加量时，即可改善100%无溶剂紫外固化印刷油墨和套印清漆的基材润湿和流平性能 | |
| BYK®-UV 3500 FOR INKS | BYK 毕克 | 表面添加剂，用于辐射固化体系，具有高表面滑爽度，以及改进的流平性能和基材润湿性能 | |
| BYK®-UV 3510 FOR INKS | BYK 毕克 | 表面添加剂，用于辐射固化体系，尤其推荐用于辐射固化套印清漆，低添加量时即可改善基材润湿性能和流平性能 | |
| BYK®-UV 3530 FOR INKS | BYK 毕克 | 表面添加剂，用于辐射固化体系，可改进流平性能 | |
| TEGO® Glide 110 | Evonik Operations GmbH, BL Coating Additives | 滑爽和流动性添加剂，可广泛用于水性、辐射固化的溶剂型和无溶剂型体系。 | Request Sample |
| TEGO® Glide 130 | Evonik Operations GmbH, BL Coating Additives | 滑爽和流动性添加剂，可广泛用于水性、辐射固化的溶剂型和无溶剂型体系。 | Request Sample |
| TEGO® Rad 2550 | Evonik Operations GmbH, BL Coating Additives | TEGO® Rad 2550 is a highly efficient cross-linkable slip additive and defoamer for radiation-curing inks and matte varnishes. Creates very low COF and hydrophobic surfaces with release effect. | Request Sample |
